專利和商標審查五年規(guī)劃印發(fā)
日前，國家知識產(chǎn)權局印發(fā)《專利和商標審查“十四五”規(guī)劃》。《規(guī)劃》堅持以習近平新時代中國特色社會主義思想為指導，深入學習貫徹習近平總書記在中央政治局第二十五次集體學習時的重要講話精神，全面落實《知識產(chǎn)權強國建設綱要（2021—2035年）》《“十四五”國家知識產(chǎn)權保護和運用規(guī)劃》各項決策部署。
《規(guī)劃》堅持高質量發(fā)展、堅持需求導向、堅持穩(wěn)中求進的基本原則，圍繞申請質量提升、審查質量和效率提高、審查服務優(yōu)化、審查國際化合作深化等方面設置了定性目標，針對進一步提高專利和商標審查質量和效率，設置了11項預期性定量指標?！兑?guī)劃》共設置七方面主要任務：一是持續(xù)完善審查制度，二是穩(wěn)步提升審查質量，三是繼續(xù)提高審查效率，四是協(xié)同推進申請質量提升，五是提升審查組織機構運行效能，六是深化審查“放管服”改革，七是全面深入開展審查審理業(yè)務國際合作。此外，《規(guī)劃》還從廉政風險防控、人才隊伍、經(jīng)費、信息化及審查文化建設五個方面建立了保障措施，以確保十四五末如期完成預定的目標。（來源：國家知識產(chǎn)權局網(wǎng)站）