據(jù)悉，智利新知識產(chǎn)權法正在國會進行最后討論，有望幾個月后生效。智利知識產(chǎn)權法自1991年頒布以來（IP Law 19.039），經(jīng)歷了2005年、2007年和2012年三次修訂。此次修訂涉及發(fā)明、實用新型和工業(yè)外觀設計主要內(nèi)容如下：
1.發(fā)明專利新增臨時申請
2.外觀設計可不進行實審
目前，外觀設計的注冊程序與發(fā)明專利的審查程序相同，即進行實審。改法后，新增了一種簡化程序，即無需實審即可注冊。這種“簡化”程序會與實審程序（新穎性和獨特性審查）并存。
3.延長外觀設計保護期限
目前，外觀設計的保護期限為10年，新法案提議，將其保護期限延長為15年，即第一次授予期限為5年，且每五年續(xù)展一次。
4.優(yōu)先權恢復
目前的立法對巴黎公約和PCT途徑的優(yōu)先權恢復存在差異。PCT途徑進入智利國家階段，申請人可以在優(yōu)先權期限屆滿后的兩個月內(nèi)要求恢復優(yōu)先權。改法后，優(yōu)先權恢復將同樣適用于巴黎公約途徑進入的申請案件。
5.更為靈活的年費支付方式
目前，智利發(fā)明、實用新型、外觀設計以及集成電路的年費為每十年或每五年支付一次，具體取決于專利保護類型。該法案提出了一種選擇，使申請人可以選擇每年支付的方式與現(xiàn)行的方式并存。
6.增加超頁官費
目前對于申請文件頁數(shù)并無額外的附加費，該法案規(guī)定，對于申請文件頁數(shù)為80頁以上的將收取超頁費。
7.縮短專利補充保護的請求期限
根據(jù)現(xiàn)行的《工業(yè)產(chǎn)權法》第19.039號規(guī)定，由于以下原因，申請人可以請求延長專利保護期限：（a）藥品專利的注冊程序或衛(wèi)生注冊程序中存在不合理的行政延遲，并且（b）專利注冊程序從申請之日起算超過五年或從請求實審起算超過三年。該法案將請求補充保護的期限減少到60天內(nèi)（目前是6個月），并規(guī)定補充保護的期限不得超過5年。
8.關于重啟案件的期限規(guī)定
現(xiàn)行法律規(guī)定，對于不符合審查要求的申請且申請人未在合理期限內(nèi)進行處理，該申請將被視為放棄并存檔。但申請人享有120天的時間請求重新啟動該案件。根據(jù)新法案的規(guī)定，請求重新啟動案件的期限縮短為自發(fā)出放棄通知起45天內(nèi)。
9.對于非法專利權人的法律新規(guī)
根據(jù)現(xiàn)行法律，如果一項發(fā)明專利是由無權注冊的申請人注冊，則其合法所有者只能要求宣布其注冊無效。新法案規(guī)定，專利權人有權要求無權注冊人轉(zhuǎn)讓該專利所有權并承擔相應的損害賠償，訴訟時效為自專利注冊之日起五年內(nèi)。